潔淨室中工業麻豆视频免费看的濕度控製
潔淨室的發展與現代工業、尖端技術密切聯係在一起。由於精密機械工業（如陀螺儀、微型軸承等加工）、半導體工業（如大規模集成電路生產）等對環境的要求，促進了潔淨室技術的發展。
潔淨室的濕度控製
潔淨室是控製汙染的工作場所。
據稱潔淨室為環境汙染物（如塵埃，氣載微生物，氣溶膠顆粒和化學蒸氣）提供了一個有利環境（用於研究，開發和製造設備或工藝）。
隨著對質量檢測和控製的日益重視，對缺陷的零容忍和嚴格的生產實踐，潔淨室的需求增加了多方麵。潔淨室現在被設計成特殊構造的封閉區域，對空氣中的顆粒物，溫度，濕度，氣壓流動模式，空氣運動，振動，噪音和有生命的生物體進行環境控製。
潔淨室的主要應用領域是電子工業，製藥，航空航天，汽車，信息技術和其他需要更嚴格製造條件的其他領域。潔淨室的應用範圍廣泛，從製造微型小組件，電子設備和儀器到日益需要更多的藥品，食品和無菌無菌環境中的醫療和生物應用的無菌性和純度。
汙染物可以來自各種各樣的來源：空氣（其清潔程度根據潔淨室的類別和灰塵等級來定義），水，化學物質，物理植物本身和人員。
不受控濕度的影響
微生物生長和腐蝕
工作表麵上的冷凝導致計劃延遲和產品質量較差
汙染導致產品變質
不受控濕度的原因
半導體和製藥無塵室高濕度的例子
半導體潔淨室
微電路和微芯片製造需要稱為光刻膠的吸濕聚合物來掩蓋用於蝕刻工藝的電路線。由於它們的吸濕性，它們吸收水分，因此微觀電路線被切斷或橋接，導致電路故障。另外，在半導體製造中，當晶片製造區域中的濕度水平波動時，會出現許多問題。烘烤時間通常會增加，整個過程通常變得更難以控製。高於35％RH的濕度會使組件容易受到腐蝕。此外，隨著顯影劑溶劑噴灑到晶片上，溶劑迅速蒸發，冷卻晶片足以冷凝空氣中的水分。這種額外的水可以改變顯影劑特性並被吸收到半導體層上。這可能會導致膨脹和產品質量問題，從而需要額外的過程控製。
製藥潔淨室
在製藥生產設施中，高濕度會使細粉吸收水分，阻塞粉末進入壓片機。由吸濕引起的粉末不一致導致崩潰的片劑和堵塞的片劑模具。濕度變化意味著難以調整床溫和噴霧速率，導致熱損傷和濕氣侵入。此外，空氣管道中的濕度會造成潮濕的地方，細菌菌落生長並引起過程汙染。
一般建議
幹淨室內的相對濕度應控製在35-40％RH（這是工藝要求的一個函數），用於全年運行。在低於20°C（70°F）的溫度下，這些RH水平通常保持在±2％RH的窄帶內。
工業麻豆视频免费看激情麻豆视频
工業麻豆视频免费看可將露點始終保持在非常低的水平，如（-）60°C（空氣濕度的歧管減少），遠遠超過標準HVAC製冷係統所能達到的水平。
<
<
<
<
<
<
<
<
